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日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP

訪問次數(shù):669

更新日期:2024-06-15

簡要描述:

日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP
臺式和固定式研磨機的設計尺寸非常適合創(chuàng)建從實驗室規(guī)模到生產(chǎn)規(guī)模的高度靈活的拋光工藝。

日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP
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日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP

臺式和固定式研磨機的設計尺寸非常適合創(chuàng)建從實驗室規(guī)模到生產(chǎn)規(guī)模的高度靈活的拋光工藝。
采用特別適合高壓拋光的高剛性機身和開發(fā)的水冷主軸,使拋光墊表面溫度始終保持恒定,并提供高旋轉(zhuǎn)精度和很少的振動。

設備規(guī)格

型號:EJW-460I-CMP

日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP

機械模型EJ-300-CMPEJ-380-CMPEJW-380I-CMPEJW-460-CMP
標準平臺尺寸(?外徑×?內(nèi)徑mm)300×100380x140460x180
戒指尺寸(?外徑 x ?內(nèi)徑 mm)143x108178x140220x182
粘貼板尺寸(mm)107138180
主軸電機(千瓦)0.41.52.2
水冷機構(gòu)

標準軸數(shù)/搭載加壓氣缸機構(gòu)滾輪臂 x 3 軸回轉(zhuǎn)強制驅(qū)動驅(qū)動 x 2 軸
電源三相AC200V 50/60Hz
機身尺寸(寬 x 深 x 高毫米)550×780×410800×800×1,9001,200×1,300×1,900
重量(公斤凈重)958001,000

*EJ-300/380-CMP 為桌面型。



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