膜厚測(cè)量原理和表面形狀測(cè)量原理
薄膜厚度和表面形狀的測(cè)量方法大致可分為兩種:光學(xué)(非接觸式)和接觸式(破壞性)。以下是非接觸式光學(xué)和接觸式測(cè)量方法的類型比較。
| 方法 | 形狀 | 膜厚 | 測(cè)量 | 解析度 | 預(yù)處理 | 速度 | 價(jià)格 |
非 | 白色干涉類型: | ◎ | 步 | 表面 | ◎ | 不必要 | ◎ | ○ |
反射光譜: | × | ◎ | 觀點(diǎn) | ◎ | 不必要 | ◎ | ○ | |
橢偏儀 | × | ◎ | 觀點(diǎn) | ◎ | 不必要 | × | × | |
共聚焦激光 | ○ | 步 | 線(面) | ? | 不必要 | △ | ? | |
接觸 | 針式輪廓 | △ | 步 | 線 | Z軸 | 需要 | ○ | × |
原子力顯微鏡: | ◎ | 步 | 線(面) | ◎ | 需要 | △ | × | |
電鏡截面 | ○ | 橫截面 | 表面 | ◎ | 需要 | × | × | |
千分尺 | × | × | 觀點(diǎn) | × | 不必要 | × | ◎ | |
電氣測(cè)量: | × | ○ | 觀點(diǎn) | 低的 | 需要 | × | ◎ | |
重量換算方法 | × | △ | 表面 | 低的 | 需要 | × | ○ |
方法 | 特點(diǎn)/優(yōu)點(diǎn)/缺點(diǎn) |
白色干涉型 | 通過(guò)使用干涉物鏡照射白光并從樣品表面反射和干涉透鏡中的參考鏡反射的光來(lái)觀察干涉條紋圖像。當(dāng)鏡頭稍微上下移動(dòng)時(shí),干涉條紋出現(xiàn)的表面在高度方向上發(fā)生變化,從而可以將干涉條紋圖像的波動(dòng)掌握為表面形狀。 |
反射光譜 | 一種通過(guò)用白光照射薄膜,使薄膜表面的反射光和透過(guò)薄膜并在與基材的界面處透射的反射光分散來(lái)測(cè)量薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)的方法。無(wú)需接觸即可測(cè)量固體薄膜。 |
橢偏儀 | 膜厚和光學(xué)常數(shù)可以通過(guò)用兩種偏振光以一定角度照射樣品,并捕捉反射和返回的兩種偏振光之間的差異(相位差、反射幅度)來(lái)獲得。由于入射光有角度,對(duì)測(cè)量較薄的薄膜和多層薄膜是有效的,但設(shè)備趨于復(fù)雜,由于參數(shù)較多,算法復(fù)雜,計(jì)算耗時(shí)。光譜法非常昂貴。 |
共焦型 | 當(dāng)使用共焦光學(xué)系統(tǒng)時(shí),激光束可以集中在一點(diǎn),因此,如果在用激光照射樣品的同時(shí)調(diào)整光學(xué)系統(tǒng)的高度,則在聚焦的位置反射強(qiáng)度。通過(guò)掃描獲得反射強(qiáng)度,同時(shí)記錄高度,可以得到二維表面形狀。 由于一次掃描的區(qū)域有限,因此測(cè)量需要時(shí)間。對(duì)于難以聚焦的樣本或由于高度微妙而難以掌握焦點(diǎn)位置的樣本,很難獲得高度信息。雖然是顯微鏡,但是是點(diǎn)測(cè)量。 |
方法 | 特點(diǎn)/優(yōu)點(diǎn)/缺點(diǎn) |
針型(針型輪廓儀、坐標(biāo) 測(cè)量?jī)x、 AFM、SPM等) | 通過(guò)用針(觸針、探針等)追蹤樣品表面來(lái)測(cè)量形狀的方法。 可以通過(guò)掃描針獲得表面形狀輪廓數(shù)據(jù)。可以測(cè)量臺(tái)階和表面形狀,并且可以測(cè)量不允許光通過(guò)的金屬臺(tái)階。 測(cè)量大形狀時(shí),使用大針,但在這種情況下,難以測(cè)量精細(xì)形狀或粗糙度。很難測(cè)量柔軟或潮濕的表面。獲得廣泛的表面數(shù)據(jù)需要大量的掃描并且需要時(shí)間。 |
顯微截面觀察 | 一種通過(guò)將樣品切得很薄并觀察切割面來(lái)捕捉微小表面形狀和薄膜層狀結(jié)構(gòu)的方法。 |
直接接觸測(cè)量 | 測(cè)量樣品總厚度的簡(jiǎn)單和簡(jiǎn)單的方法。測(cè)量精度取決于用于測(cè)量的設(shè)備的分辨率和測(cè)量者的技能。 |
電測(cè)量: | 用探針接觸薄膜表面通電時(shí),渦電流和電特性會(huì)根據(jù)薄膜表面和基材表面之間的距離而波動(dòng),因此這是一種將其轉(zhuǎn)換為薄膜厚度的方法。 基板必須是導(dǎo)電或非磁性金屬,否則必須連接電極。 它們中的許多體積小且價(jià)格便宜,但它們需要校準(zhǔn)曲線,而且薄膜越薄,誤差的影響就越大。 |